Графический процесс в микро-/Nano обработке---Лазерный луч

August 3, 2020
последние новости компании о Графический процесс в микро-/Nano обработке---Лазерный луч

Делая по образцу процесс микро-nano обработки главным образом разделен в 2 технологии: передача и непосредственная обработка картины. Лазерный луч вытравляя технологию имеет возможность сразу записи, избегая процесса мульти-шага передачи картины, и сразу производит трехмерные микроструктуры на материале путем контролировать сфокусированный с высокой энергией лазерный луч. Он имеет фильм субмикрона вытравляя обрабатывающ точность и соответствующий для разнообразие материалов.

 

Фотолитография перенести картину сделанную на маске фотолитографии к поверхности субстрата. Независимо от того, какой вроде микро- прибор обработан, микро- обрабатывая процесс можно сломать вниз в одни или больше циклы 3 отростчатых шагов низложения, фотолитографии и вытравливания фильма. Литографирование на передовой линии процесса производства MEMS, и свое разрешение графиков, точность верхнего слоя и другие свойства сразу влияют на успех или отказ последующих процессов.

 

Микро-nano технология изготовления ссылается на технологию дизайна, обработки, собрания, интеграции и применения частей с размерами миллиметров, микрометров, и нанометров, так же, как компонентов или систем составленных этих частей. Микро-nano технология изготовления основные середины и важное учреждение для производства микро-датчиков, микро-приводов, микроструктур и функциональных микро-nano систем.